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PVD镀钛通常称谓：镀钛，镀钛厂，镀膜,真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工,真空镀膜加工，表面处理，PVD涂层，模具镀钛，纳米涂层，真空电镀，零件镀钛，精密模具镀钛，冲压模具镀钛，压铸模具镀铬，耐磨涂层，真空镀钛，镀钛涂层，离子镀钛，真空涂层，冲棒镀钛，五金模具镀钛，塑胶模镀钛，纳米镀钛,金属表面处理等.

金属表面处理PVD镀钛特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。

蒸发镀膜

真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。

采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。

点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热

缺点电子枪结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调

3激光蒸发镀膜

采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。

优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致

缺点

易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量

受到电场力的吸引，接下来氮的阳离子会向飞向阴极即靶材附近，而电子则会飞向引弧针，但是由于离子的质量远远大于电子，因此在受到相同电场力的情况下，电子的移动距离会大于阳离子的移动距离，于是当电子到达阳极时，离子将不会到达阴极靶面，而是在距离靶面较近的位置处富集，形成正离子堆积层，阳离子与阴极靶面的距离很小，可达微米级。根据E=U/d，可知此时空间中的电场强度极高，这种极强的电场会把靶材中的电子“扯”出来。离子镀在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。