曝光
曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上,放好底片,通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光,曝光模式即计算机采用自然光源的模式,通常分为多种,手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关,也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间(快门速度决定),通光面积(光圈大小)决定。江苏友迪光电成立于江苏徐州丰县经济开发区,在苏州建立研发中心,已有核心研发团队30人,涵盖光机电软与运动系统。
线路板曝光机:用紫外线(UV)的能量,使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应,以达到选择性局部架桥硬化的效果,完成影像转移的目的称为曝光。将棕片(重氮片)上的图曝光到涂了感光物或是贴了感光干膜的线路板硬板PCB或软板FPC上。
曝光机理:通过UV光照射,使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。
光源:散射光、准平行光、平行光、激光。
设备:手动对位曝光机,半自动对位曝光机,自动曝光机,LDI曝光机,DI曝光机。
江苏友迪激光科技有限公司、江苏钧迪智能装备科技均是江苏迪盛智能科技有限公司旗下子公司,拥有的直接成像技术,欢迎大家来电咨询!!!
DI直接成像曝光机
1、技术优势:
所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序,使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组,此系统将高清晰度的影像转移至感光基材,根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI,光学头在板材上方连续移动曝光,高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。操作要求:(1)工作环境温度应在0-40℃,相对湿度要小于80%。
2、耗电低:
待机时只需消耗350W,曝光时消耗2.5KW,这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗,故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。
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